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电子半导体行业用超纯水设备水质要求及工艺流程
来源: | 作者:净澈环保 | 发布时间: 294天前 | 118 次浏览 | 分享到:
电子半导体行业用超纯水设备水质要求及工艺流程

 电子半导体行业用的超纯水设备,对水质要求非常严格,
半导体用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金属离子含量都要在ppb级以下,总硅小于3ppb,TOC小于50ppb,电阻率在18MΩ·cm以上,水质中及其微量的杂质原子都会对产品造成极大的影响。
   半导体行业对超纯水的要求非常严格,在超纯水的和制备过程中,预处理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是最常用的预处理工艺流程。原水中加入絮凝剂或采用电解絮凝方式,可以去除悬浮物、胶体和少部分有机物。氧化主要是去除易生物降解的有机物和氨氮。吸附同样去除水中的悬浮物和胶体。
    半导体行业用的超纯水处理工艺一般为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→保安过滤器→反渗透装置→混床→超滤设备→超纯水。终端的超滤设备可进一步降低微粒和细菌的含量。
    

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